全息實驗-基本型_XGZ-5

簡要描述：全息照相是利用相干光疊加而發生干涉的原理，記錄參考光波與原物光波（從物體反射的光波）在記錄介質上的干涉條紋。這種干涉條紋記錄了物光波的振幅信息、位相信息。本實驗采用光致聚合物干版作為記錄介質，半導體激光器作為光源，可以做反射式和透射式全息圖，反射式全息圖（可以白光再現）。明室環境下即可成功操作，不需要配備專門的暗室。沖洗非常方便，經電吹風快速吹干水分，即可在白光下現出清晰的三維圖像，易維

產品型號：XGZ-5
廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-07-17
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詳情介紹

簡介
全息照相是利用相干光疊加而發生干涉的原理，記錄參考光波與原物光波（從物體反射的光波）在記錄介質上的干涉條紋。這種干涉條紋記錄了物光波的振幅信息、位相信息。
本實驗采用光致聚合物干版作為記錄介質，半導體激光器作為光源，可以做反射式和透射式全息圖，反射式全息圖（可以白光再現）。明室環境下即可成功操作，不需要配備專門的暗室。沖洗非常方便，經電吹風快速吹干水分，即可在白光下現出清晰的三維圖像，易維護，尤其適合教學實驗。

特點
明室操作，白光再現；
光致聚合物干版，彩虹全息；
沖洗方便，快速顯影；
40mW半導體激光器；
電子式曝光定時器，數字顯示，遙控、手動隨意選擇。

可開實驗

1. 反射式全息照相

2. 透射式全息照相

技術參數

半導體激光器：650nm、帶寬<0.2nm、功率>30mW

曝光定時器：0.1-999.9s，B門、T門、定時、常開四種模式選擇

全息干板：紅敏光致聚合物干版

光學平臺（選配）：平面粗糙度≤0.8μm，平面度≤0.05mm/m²，600×600×60mm

成套性

半導體激光器、曝光定時器、反射鏡組件、透鏡組件、全息干板，全息照相物體、光學平臺（選配）等

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